M-ARC™

O processo de deposição via arco catódico é bastante versátil e permite a deposição de filmes monocamada ou multicamada em grande variedade de substratos dentro de ampla faixa de temperaturas, com excelente adesão ao substrato.

O grupo HEF dispõe de uma evolução da técnica de deposição por arco catódico, o M-ARC™. Esta nova tecnologia permite que sejam obtidas camadas com baixíssima incidência de droplets, geralmente associados a tecnologias convencionais de deposição via arco catódico.